রিয়েল কেমিক্যাল ২০০৫ সালে ফসফরিক অ্যাসিড তাপ প্রক্রিয়াটি উপলব্ধি করেছিল, যার পণ্য বিশুদ্ধতা ৮৫% পর্যন্ত। ফসফরিক অ্যাসিড উত্পাদন প্রক্রিয়া। এই শিল্পটি ফসফরিক অ্যাসিডের ভিজা প্রক্রিয়াটি প্রতিস্থাপন করে, যা ফসফরিক অ্যাসিডের সাথে মিশ্রিত হয়।যা ৬৫% পর্যন্ত বিশুদ্ধতা উৎপাদনের সমস্যার সমাধান করে২০১০ সালে, রিয়েল কেমিক্যাল এই নতুন প্রক্রিয়াটি প্রকাশ করবে, ফসফরের ব্যবহারের হার উন্নত করে পরিবেশ রক্ষা করার লক্ষ্যে।এবং এইভাবে চীনে তৈরির খ্যাতি বজায় রাখা, বাজার পরিবেশের উন্নতি এবং চীনা রাসায়নিক পণ্যের গুণমানের উন্নতি।
তাপীয় পদ্ধতি: বৈদ্যুতিক চুল্লি ফসফরাস → হলুদ ফসফরাস জ্বলন → শোষণ এবং হাইড্রোলাইসিস → ফসফরিক অ্যাসিড
ভিজা পদ্ধতি:
ফসফেট পাথরের অজৈব এসিড বিভাজনঃ সাধারণভাবে ব্যবহৃত নাইট্রিক এসিড, হাইড্রোক্লোরিক এসিড, সালফিউরিক এসিড, ফ্লোরোসিসিলিসিক এসিড
Ca5 ((PO4) 3F+10HNO==3H3PO4+HF+5Ca(NO3) 2
Ca5 ((PO4) 3F+10HCl ==3H3PO4+HF+5CaCl2
Ca5 ((PO4) 3F+5H2SO4==3H3PO4+HF+5CaSO4.nH2O
Ca5 (PO4) 3f + 5 h2sif6 h3po4 = = 3 + HF + 5 casif6. 2 h2o
কারণ ক্যালসিয়াম সালফেটের দ্রবণীয়তা খুব কম, এটি ফসফরিক অ্যাসিড থেকে আলাদা করা সহজ,তাই ভিজা ফসফরিক অ্যাসিড আসলে ফসফরিক অ্যাসিড বোঝায় যা ফসফ্যাট পাথরের সালফিউরিক অ্যাসিড বিভাজন দ্বারা প্রাপ্ত হয়.
প্রথমত, তাপীয় ফসফরিক অ্যাসিড উত্পাদন প্রক্রিয়া
1. সম্পূর্ণ জ্বলন পদ্ধতিঃ (এক ধাপের পদ্ধতি), বৈদ্যুতিক চুলা থেকে উপাদান ফসফরাস ধারণকারী চুলা গ্যাস সরাসরি পোড়া হয়, এবং চুলা গ্যাসের মধ্যে CO এছাড়াও একসাথে পোড়া হয়ঃ
P4+10CO+10O2==2P2O5+10CO2+△
2P2O5+2H2O == 4HPO3
HPO3+H2O == H3PO4
এই পদ্ধতিটি শিল্পে ব্যবহার করা হয়নি কারণ তাপ ব্যবহারের দুর্বলতা (ফসফেট অ্যানহাইড্রাইডের শক্তিশালী ক্ষয়, বিপুল সংখ্যক প্রতিক্রিয়া তাপ ব্যবহার করা যায় না) ।
2তরল ফসফরাস জ্বলন পদ্ধতি (দুই ধাপের পদ্ধতি),
- সাধারণ শিল্প প্রক্রিয়া, প্রথমঃ হলুদ ফসফরাস জ্বলন → ফসফরাস পেনক্সাইড → জল শীতল, শোষণ → ফসফরিক অ্যাসিড, এছাড়াও জল শীতল প্রক্রিয়া হিসাবে পরিচিত।
- দ্বিতীয়ঃ হলুদ ফসফরাস জ্বলন → ফসফরাস পেনক্সাইড → ঠান্ডা ফসফরিক অ্যাসিড শীতল, শোষণ → ফসফরিক অ্যাসিড, এছাড়াও এসিড শীতল প্রক্রিয়া হিসাবে পরিচিত।
- থার্মাল ফসফরিক অ্যাসিড সাধারণত > 85% ফসফরিক অ্যাসিড ধারণ করে, উচ্চ ঘনত্ব, বিশুদ্ধ মানের, খাদ্য ও ওষুধ শিল্পের জন্য ফসফরিক অ্যাসিডের প্রধান কাঁচামাল।
- মৌলিক ফসফরাস দিয়ে তাপীয় ফসফরিক অ্যাসিড উত্পাদন, মৌলিক ফসফরাস 1 টন 1.38 টন 100% ফসফরিক অ্যাসিড উত্পাদন করতে পারে, 12,500 ~ 15,000kwh বিদ্যুৎ খরচ প্রয়োজন,এটি একটি উচ্চ শক্তি খরচ শিল্প.
চুলা গ্যাসের ধুলো অপসারণ
বৈদ্যুতিক চুলা থেকে বেরিয়ে আসার সময় চুলা গ্যাসের ধুলোর পরিমাণ সাধারণঃ 50 ~ 150g/m3। ধুলো অপসারণ ফসফরাস বাষ্প এবং ফসফরাস পরিশোধনের ঘনত্ব উন্নত করতে পারে,কিন্তু ধুলো অপসারণের সময় ফসফরাস বাষ্পের ঘনীভবন রোধ করা উচিত.
রাসায়নিক বিক্রিয়া সমীকরণ অনুযায়ী, ফসফরাস (পি 4) এর 1 অণুর গঠন একযোগে CO এর 10 অণু এবং SiF4 এর 0.33 অণু তৈরি করে,এবং ফসফরাস বাষ্প 1/11 এর জন্য দায়ী.33 মোট গ্যাসের ভলিউমের। যদি সিস্টেমটি নেতিবাচক চাপে (<90KPa) পরিচালিত হয়, তবে ফসফরাস বাষ্পের আংশিক চাপ < 8KPa এবং সংশ্লিষ্ট তাপমাত্রা 175.7 °C।
ধুলো অপসারণের প্রক্রিয়াতে, যাতে ফসফর গ্যাস গ্যাসীয় অবস্থায় থাকে এবং ফসফর হারানো এড়ানো যায়,অপারেটিং তাপমাত্রা শিশির পয়েন্ট তাপমাত্রা (160°C) এর চেয়ে কম হওয়া উচিত নয় (যখন ফসফরাস বাষ্প সামগ্রী 300 ~ 350g/m3 হয়), ডো পয়েন্ট 160 ~ 170°C)
সাধারণ ধুলো অপসারণ সরঞ্জামঃ ফেজ টাইপ ধুলো সংগ্রাহক, উচ্চ ভোল্টেজ ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক precipitator (অপারেশন তাপমাত্রা > 200 °C)
চুলা গ্যাসে ফসফরাস বাষ্পের ঘনত্ব
সাধারণত, দুটি বা তার বেশি কলাম ব্যবহার করা হয় উপযুক্ত সুপারস্যাচুরেশনে ফসফরাস বাষ্পের ঘনীভবনকে উৎসাহিত করার জন্য।
টাওয়ারের গ্যাসের গতি সাধারণঃ 0.1 ~ 0.2 মি / সেকেন্ড, এবং বায়ুমণ্ডলের মাধ্যমে তরল পৃথক করা কঠিন।
টাওয়ারে গ্যাসের থাকার সময়ঃ >100 মিনিট
টাওয়ার আউটপুট নিষ্কাশন তাপমাত্রাঃ <35°C, যাতে ফসফরাস এর ঘনীভবন হার > 99%
ফসফরাস পরিশোধন
ঘনীভূত তরল ফসফরাসটিতে সামান্য পরিমাণে ধুলো ছড়িয়ে পড়ে, যা হলুদ ফসফরাস পণ্যগুলির মানের মান পূরণের জন্য আরও পরিমার্জন করতে হবে।
ফসফরাস তরল ঘনত্ব 1.75g / cm3 হয়, যা অমেধ্যের ঘনত্বের চেয়ে বেশি। পর্যাপ্ত সময় দিয়ে, ফসফরাস এবং অমেধ্য পৃথক করা যেতে পারে,এবং সংশোধনের দক্ষতা বাড়ানোর জন্য উপযুক্ত সংযোজন যোগ করা যেতে পারে. (যেমন ডায়াটোমেসিস আর্থ)
বিশোধনের সময়, তাপমাত্রা সাধারণত ফসফরাস এবং অমেধ্যের কলয়েডাল কাঠামো ধ্বংস করার জন্য নিয়ন্ত্রিত হয়।
অপ্রত্যক্ষ বাষ্প গরম এবং গরম জল উত্তেজনা (60 ~ 70 °C) প্রায়ই পরিশোধনের জন্য ব্যবহৃত হয়
পরিমার্জন সময়ঃ 60 ~ 80 °C, সাধারণত 16 ঘন্টা বেশি প্রয়োজন।
লেখক: রিয়েল কেমিক্যাল। প্রকাশের তারিখ: এপ্রিল ২০১০। সর্বশেষ সম্পাদনাঃ সেপ্টেম্বর ২০১০।